由于鍍鉻層具有優(yōu)良的性能，廣泛用作防護(hù)一裝飾性鍍層體系的外表層和功能鍍層，在電鍍工業(yè)中一直占重要的地位。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和人們對(duì)環(huán)境保護(hù)的日趨重視，在傳統(tǒng)鍍鉻的基礎(chǔ)上相繼發(fā)展了微裂紋和微孔鉻、黑鉻、松孔鉻、等新工藝，使鍍鉻層的應(yīng)用范圍進(jìn)一步擴(kuò)大。
　　根據(jù)組成和性能不同，可將鍍鉻液分為如下幾類(lèi)。
　　1.普通鍍鉻液 以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便，是目前應(yīng)用為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度(350～500g/L)、中濃度(150～250g/L)和低濃度(50～150g/L)鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等;高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低。
　　2.復(fù)合鍍鉻液 以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達(dá)到20%以上。然而，氟硅酸對(duì)陽(yáng)極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強(qiáng)的腐蝕作用，須采取一定的防護(hù)措施。
　　3.自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻液 以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡，并分別有一溶度積常數(shù)Ksp，即當(dāng)溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度加大時(shí)，相應(yīng)的離子濃度乘積將大于溶度積常數(shù)，過(guò)量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉淀而析出;相反，當(dāng)溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時(shí)，槽內(nèi)的SrS04或K2SiF6沉淀溶解，直至相應(yīng)的離子濃度乘積等于其溶度積時(shí)為止。所以，當(dāng)鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時(shí)，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過(guò)溶解沉淀平衡而自動(dòng)的調(diào)節(jié)，并不隨電鍍過(guò)程的持續(xù)而變化。這類(lèi)鍍液具有電流效率高(270A)，允許電流密度范圍大(高達(dá)80～100A/dm2)，鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快(50/-m/h)等優(yōu)點(diǎn)，故又稱(chēng)“高速自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強(qiáng)。
　　今天的內(nèi)容就介紹到這里了，快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎(chǔ)上，加入硼酸和氧化鎂，允許使用較高的電流密度，從而提高了沉積速度，所得鍍層的內(nèi)應(yīng)力小，與基體的結(jié)合力好。